Hab da ein schniekes Bildchen dazu gefunden wie sich Intel das vorstellt mit der Verkleinerung.
2011 dann schon mit 22nm.
Das könnten feuchte Träume bleiben. Nicht so sehr für Intel, aber für uns. Ich denke da eher realistisch, bei mir selbst tummeln sich zur Zeit ein Barton mit 130 nm, zwei A64 mit jeweils 90 nm und als dernière cri der Conroe mit 65 nm, der gerade mal eben für den Massenmarkt zu haben ist.
Vorab sollte man wissen, daß je kleiner die Chipstrukturen sind, desto kürzerwellig muß das Licht sein, mit der die Chipmasken belichtet werden. Eigentlich geht so eine Maskenbelichtung nur dann gut, wenn die kleinste Struktur in etwa gleichgroß wie die benutzte Lichtwellenlänge ist. Ganz abgesehen: Wir müssen ja auch den Wafer auf nm genau positionieren:
Mit der Lithografie wird das ganze wirklich schwierig: 65 nm lassen sich noch mit der derzeitigen UV-Lithografie fertigen, mit etlichen optischen Tricks wie Interferometrie, denn die Strukturen sind schon jetzt kleiner als die erzeugende Lichtwellenlänge.
45 nm und kleiner schreit nach einer neuen Optik im Vakuum-UV oder sogar nach weichem Röntgenlicht. Dumm nur, daß es bei so kurzen Wellenlängen im Moment noch nicht genügend helle Lampen gibt ! Denn dort arbeiten keine Linsen mehr und Spiegel spiegeln nicht mehr so richtig: Schließlich flutscht Röntgenlicht ja sogar durch uns durch (was der Sinn einer Röntgenaufnahme ist ...
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Mit den ersten Chips in 45 nm hat Intel (AMD/IBM im Übrigen auch) die ersten Tapser in Sachen EUV-Lithografie gemacht, alles weitere steht in den Versuchslabors ...
Im übrigen hat Intel eine große Klappe: Die Chipproduktion in der Fab36 in Dresden läuft bei AMD in 65 nm schon auf vollen Touren, nur dauert das ein paar Monate, bis alle Masken ausbelichtet, entwickelt, geätzt und die Chips getestet, und dann verpackt sind. Das kann man der Presse entnehmen.
